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吉致電子陶瓷覆銅板研磨液
陶瓷覆銅板 CMP 拋光液的定義,為半導(dǎo)體行業(yè)電子封裝使用的研磨液及拋光液,適用于陶瓷覆銅板粗拋及精拋。提高陶瓷工件表面去除率和平坦化性能,提供鏡面效果,解決電鍍銅層厚度及均勻性、表面粗糙度等拋光難題。吉致電子陶瓷覆銅板研磨液具有懸浮性好不易沉淀,顆粒分散均勻不團(tuán)聚,軟硬度適中避免劃傷,拋磨過(guò)程中提高拋光速度和質(zhì)量…
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DPC研磨液----陶瓷覆銅板研磨液拋磨效果
我司是做陶瓷覆銅板的,做的是DPC工藝。板材對(duì)粗糙度和平面度有嚴(yán)格要求,搭配吉致電子生產(chǎn)的研磨墊、研磨液拋光液效果很好,可以達(dá)到我司要求,為了回饋貴司免費(fèi)提供我司拋光液樣品,我分享兩張對(duì)比圖如下:本文由無(wú)錫吉致電子科技原創(chuàng),版權(quán)歸無(wú)錫吉致電子科技,未經(jīng)允許,不得轉(zhuǎn)載,轉(zhuǎn)載需附出處及原文鏈接。http://www.jzdz-wx.co…
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吉致電子--CMP不銹鋼表面快速拋光
不銹鋼獲取高質(zhì)量的鏡面的傳統(tǒng)工藝主要采用的拋光技術(shù):電解拋光、化學(xué)拋光和機(jī)械拋光。隨著對(duì)鏡面不銹鋼表面質(zhì)量要求的不斷提高,同時(shí)為了提高拋光效率,新型不銹鋼拋光工藝----CMP化學(xué)機(jī)械拋光 被廣泛應(yīng)用。吉致電子針對(duì)不銹鋼表面鏡面處理,配制組成的CMP拋光液,通過(guò)化學(xué)溶液提高不銹鋼表面活性,同時(shí)進(jìn)行高速的機(jī)械拋光,用來(lái)消除…
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氧化鋁陶瓷拋光液鏡面拋光
氧化鋁陶瓷片的表面拋光具有一定難度,原因有兩個(gè),一是氧化鋁材質(zhì)硬度較高,難以研磨。其二,氧化鋁陶瓷表面吸光性較強(qiáng),普通拋光難以達(dá)到鏡面效果。這就使得氧化鋁陶瓷拋光的難度無(wú)限擴(kuò)大,針對(duì)這些加工難點(diǎn),吉致電子已經(jīng)具備成熟的拋光工藝和產(chǎn)品,有完善的氧化鋁陶瓷拋光方案。 客戶的氧化鋁陶瓷片,要求做鏡面加工…
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