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吉致電子拋光材料 源頭廠家
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客戶感言

吉致電子陶瓷覆銅板研磨液

吉致電子陶瓷覆銅板研磨液

陶瓷覆銅板 CMP 拋光液的定義，為半導(dǎo)體行業(yè)電子封裝使用的研磨液及拋光液，適用于陶瓷覆銅板粗拋及精拋。提高陶瓷工件表面去除率和平坦化性能，提供鏡面效果，解決電鍍銅層厚度及均勻性、表面粗糙度等拋光難題。吉致電子陶瓷覆銅板研磨液具有懸浮性好不易沉淀，顆粒分散均勻不團(tuán)聚，軟硬度適中避免劃傷，拋磨過(guò)程中提高拋光速度和質(zhì)量…

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DPC研磨液----陶瓷覆銅板研磨液拋磨效果

DPC研磨液----陶瓷覆銅板研磨液拋磨效果

我司是做陶瓷覆銅板的，做的是DPC工藝。板材對(duì)粗糙度和平面度有嚴(yán)格要求，搭配吉致電子生產(chǎn)的研磨墊、研磨液拋光液效果很好，可以達(dá)到我司要求，為了回饋貴司免費(fèi)提供我司拋光液樣品，我分享兩張對(duì)比圖如下：本文由無(wú)錫吉致電子科技原創(chuàng)，版權(quán)歸無(wú)錫吉致電子科技，未經(jīng)允許，不得轉(zhuǎn)載，轉(zhuǎn)載需附出處及原文鏈接。http://www.jzdz-wx.co…

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應(yīng)用案例

吉致電子--CMP不銹鋼表面快速拋光

吉致電子--CMP不銹鋼表面快速拋光

不銹鋼獲取高質(zhì)量的鏡面的傳統(tǒng)工藝主要采用的拋光技術(shù):電解拋光、化學(xué)拋光和機(jī)械拋光。隨著對(duì)鏡面不銹鋼表面質(zhì)量要求的不斷提高，同時(shí)為了提高拋光效率，新型不銹鋼拋光工藝----CMP化學(xué)機(jī)械拋光 被廣泛應(yīng)用。吉致電子針對(duì)不銹鋼表面鏡面處理，配制組成的CMP拋光液，通過(guò)化學(xué)溶液提高不銹鋼表面活性，同時(shí)進(jìn)行高速的機(jī)械拋光，用來(lái)消除…

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氧化鋁陶瓷拋光液鏡面拋光

氧化鋁陶瓷拋光液鏡面拋光

  氧化鋁陶瓷片的表面拋光具有一定難度，原因有兩個(gè)，一是氧化鋁材質(zhì)硬度較高，難以研磨。其二，氧化鋁陶瓷表面吸光性較強(qiáng)，普通拋光難以達(dá)到鏡面效果。這就使得氧化鋁陶瓷拋光的難度無(wú)限擴(kuò)大，針對(duì)這些加工難點(diǎn)，吉致電子已經(jīng)具備成熟的拋光工藝和產(chǎn)品，有完善的氧化鋁陶瓷拋光方案。  客戶的氧化鋁陶瓷片，要求做鏡面加工…

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